突破性電解槽開發：銥需求量減少200倍

   可ke再zai生sheng能neng源yuan電dian解jie製zhi氫qing在zai能neng源yuan轉zhuan換huan領ling域yu扮ban演yan著zhe一yi個ge重zhong要yao的de角jiao色se。銥yi是shi目mu前qian最zui為wei常chang用yong的de質zhi子zi交jiao換huan膜mo電dian解jie槽cao所suo必bi需xu的de稀xi缺que材cai料liao。法fa拉la第di實shi驗yan室shi的deTNO研究人員開發出了一種新的方法並申請了專利，該方法對銥的需求減少了200倍，其性能已經達到當前電解槽的25%—46%。

TNO專家Lennart van der Burg解釋說：“綠色氫氣預期將從2020年的300兆瓦增長到2030年的數千萬兆瓦。”這意味著建造電解槽對稀缺銥的需求將成比例地增長。早期的TNO研究表明，電解技術的擴大可能會受到稀缺資源（尤其是銥和鉑）的阻礙。在十年的時間裏，對銥的需求將大大超過它的供應。此外，依賴少數幾個國家來實現這一目標，將存在難以估計的風險。

技術突破

Van der Burg表示將銥的用量減少200倍，同時性能達到目前常規電解槽性能的三分之一左右
，這是一項技術突破。法拉第實驗室的TNO研究人員與埃因霍溫霍爾斯特中心的同事合作專門研究電解技術。TNO開發了空間原子層沉積技術（spatial Atomic Layer Deposition，sALD）
，該技術能將功能材料薄膜化並大麵積應用。這項技術起初是用在電腦、手機、電視等顯示屏的開發。該研究小組現在將這項技術引入到了電解槽開發。

TNO在過去的兩年裏一直在試驗sALD技(ji)術(shu)。研(yan)究(jiu)人(ren)員(yuan)將(jiang)超(chao)薄(bo)的(de)銥(yi)層(ceng)作(zuo)為(wei)催(cui)化(hua)劑(ji)材(cai)料(liao)應(ying)用(yong)在(zai)鈦(tai)的(de)多(duo)孔(kong)傳(chuan)輸(shu)層(ceng)上(shang)。通(tong)過(guo)不(bu)同(tong)的(de)實(shi)驗(yan)室(shi)測(ce)試(shi)，證(zheng)明(ming)了(le)新(xin)方(fang)法(fa)的(de)功(gong)能(neng)性(xing)和(he)穩(wen)定(ding)性(xing)。在(zai)初(chu)始(shi)應(ying)力(li)測(ce)試(shi)後(hou)

，幾(ji)乎(hu)沒(mei)有(you)退(tui)化(hua)。最(zui)重(zhong)要(yao)的(de)是(shi)
，電(dian)解(jie)槽(cao)的(de)膜(mo)仍(reng)然(ran)不(bu)含(han)銥(yi)，使(shi)其(qi)更(geng)容(rong)易(yi)回(hui)收(shou)和(he)再(zai)利(li)用(yong)。

翻譯人：王宏

https://fuelcellsworks.com/news/friday-fallback-research-story-tno-achieves-breakthrough-electrolyser-development-200-times-less-iridium-needed/